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當(dāng)前位置:首頁   >  產(chǎn)品中心  >  浸漬提拉鍍膜機(jī)  >  浸漬提拉鍍膜機(jī)  >  DP100-BE-H加熱型基本提拉鍍膜機(jī)

加熱型基本提拉鍍膜機(jī)

簡(jiǎn)要描述:DP100-BE-H型提拉鍍膜機(jī)是一款適用于液相鍍膜制 備而設(shè)計(jì)的精密儀器,可實(shí)現(xiàn)智能化編程控制。 DP100-BE-H提拉鍍膜機(jī)是一款加熱基本型提拉鍍膜機(jī), 可自動(dòng)完成在鍍膜溶液中多次鍍膜之需求,重復(fù)鍍膜次 數(shù)可達(dá)999次。所有運(yùn)行參數(shù)如運(yùn)行速度,提拉/浸漬高 度,浸漬時(shí)間,間隔時(shí)間,重復(fù)鍍膜次數(shù)等均可在觸屏 上方便設(shè)置。

  • 所在城市:無錫市
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新日期:2024-08-07
  • 訪  問  量:3600

詳細(xì)介紹

品牌LEBO/雷博產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域化工,石油,綜合
  科研鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
 
  需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材?;c靶材同在真空腔中。
 
  蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。對(duì)于濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,最終形成薄膜。
 
  科研鍍膜機(jī)產(chǎn)品參數(shù):
 
  1.運(yùn)行速度: 0.1-600 mm/min
 
  2.行程: 100 mm,位移精度:±0.1 mm
 
  3.額定線性推力: >50 N
 
  4.浸漬時(shí)間:0-9999.9 s
 
  5.重復(fù)鍍膜間隔時(shí)間0-9999.9 s
 
  6.重復(fù)鍍膜步驟:1-999次,重復(fù)鍍膜間隔時(shí)間:0-9999.9s
 
  7.晶片選擇尺寸:大長(zhǎng)100mm
 
  8.4.3寸全彩觸屏,簡(jiǎn)單易用,標(biāo)配觸屏筆操作
 
  9.結(jié)構(gòu)緊湊,易于放置在手套箱內(nèi)使用
 
  10.自帶幫助功能,對(duì)初次使用者提供使用向?qū)Чδ?br /> 
  11.提供手動(dòng)上下高度調(diào)節(jié),方便位置設(shè)置
 
  12.可命名存貯100組鍍膜程序,方便隨時(shí)調(diào)用
 
  13.產(chǎn)品外形尺寸:227(W)*350(D)*416(H)
 
在DP100-BE基礎(chǔ)上增加底部加熱功能:
 
  1.控溫范圍:室溫到120℃(更高溫度可定制)
 
  2.高精密數(shù)顯溫控表控制,控溫精度:±0.5℃
 
 

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